光刻机与蚀刻机技术方面,华国一直是弱项。
近年来,蚀刻机技术慢慢已经追赶上来,虽然仍有些差距,但已经能够看到弯道超车的希望。
但是光刻机技术不同,华国最先进的光刻机生产厂商尚海微电子生产的光刻机精度是90nm,而现在国际主**度为14nm,比如现在英特尔公司所使用的就是波长193nm光刻机,所能够达到的精度极限就是制作14nm制程的芯片。
而这,并不是最先进的光刻机。最先进的光刻机制造技术是荷兰ASML公司的EUV(极紫外)光刻机,利用它能够生产7nm甚至3nm制程的芯片。
从这个数字上看,就能够清晰看到,华国与其他国家在光刻机上的巨大差距,也能够明白为什么华国芯片技术,落后于的根本原因。
而之所以国内光刻机技术这么落后,其原因是多重的。
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